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resistについて 実施要項

フォトワークショップ resist 3期生募集 ワークショップの概要

このワークショップは写真の技術習得を目的とするものではありません。
既存の価値観やマーケットにとらわれず新しい才能を発掘し表現するスタミナをつけることを目標にした写真の学校です。

※3期生の募集は締め切りました。沢山のご応募ありがとうございました。

2008年度募集要項

日程

2008年6月3日/ 6月12日 / 6月26日 / 7月10日 / 7月24日 / 8月7日 / 8月28日 / 9月11日 / 9月25日 / 10月9日 /
10月23日 / 11月13日    夜7時〜9時(2時間程度)

※日程、会場等は事情に より変更される場合もあります。

会場

リトルモア地下

※日程、会場等は事情に より変更される場合もあります。

受講資格
年齢性別問わず、本気で写真に取り組みたい方の参加をお待ちしております。
受講料
120,000円(税込)  分納応相談
定員
20名
授業内容
作文、課題制作と、ゲスト講師によるレクチャー作品講評中心。授業終了後修了制作として写真集の出版を予定しその場合は制作から配本までの全行程を経験頂きます。過去の造本は町口覚氏にお願いしました。
ゲスト講師

(予定   敬称略   五十音順)

江成常夫(写真家)
片岡真実(森美術館 シニア・キュレー ター)
北井一夫(写真家)
北村信彦(ヒステリックグラマー )
原耕一(アートディレク ター)
三崎和雄(格闘家)
綿谷修(写真家 ヒステリックグラマー編集、アートディレクション)

選考方法

2008年4月29日(火)までに事務局宛に下記の資料を持参または郵送。

1. これまでに制作してきた作品20枚程度にまとめた
ポートフォリオ
2. 市販の履歴書に必要事項を記入したもの

後日審査を行い、5月中旬までに選考結果を全員に通知します。

応募者の個人情報について
応募に関する個人情報はresist事務局で管理し、選考、選考通知、事務局からの連絡のために使用します。以上の諸業務をresist事務局が委託する場合をのぞき、resist事務局以外の個人や諸機関へ開示転用は致しません。


お問い合わせ/応募資料提出先

resist 事務局 担当 篠原俊之
〒160-0004 
東京都新宿区四谷4-11 みすずビル1F
ルーニィ・247フォトグラフィー内
Tel/Fax 03-3341-8118
http://www.roonee.com/resist

 
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